ASML上調(diào)全年目標：EUV狂賣65臺，營收上看450億歐元！

2026年7月15日，光刻機大廠ASML發(fā)布了2026年第二季度財報。受益于人工智能（AI）相關(guān)設備投資的持續(xù)強勁需求，ASML二季度業(yè)績?nèi)娉鍪袌鲱A期，同時顯著上調(diào)了2026年全年業(yè)績指引，預計營收將達430至450億歐元。

Q2營收同比增長21.2%

2026年第二季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額93.26億歐元，同比增長21.2%，環(huán)比增長6.4%，超出市場分析師平均預期的88.5億歐元；毛利率為54.0%，優(yōu)于市場普遍預期的52%，較第一季度的53.0%提升了1個百分點；凈利潤為29.18億歐元，同比增長27.4%，環(huán)比增長5.8%，大幅超出分析師平均預期的預期26.3億元；每股基本收益（EPS） 為7.59歐元，超出市場預期，較上一季度的7.15歐元增長6.2%。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮（Christophe Fouquet）表示：“2026年第二季度，ASML凈銷售額為93億歐元，毛利率達54.0%，均高于此前預期，這主要得益于裝機售后服務（累計裝機售后服務等于凈服務和升級方案（field option）銷售額的總和）銷售額超出預期。”

傅恪禮進一步指出，“人工智能（AI）相關(guān)領(lǐng)域的投資持續(xù)推進，相關(guān)技術(shù)不斷取得進展，正帶動先進邏輯芯片和存儲芯片需求增長，進一步鞏固了半導體行業(yè)的增長前景。在此推動下，我們的客戶正繼續(xù)加快推進產(chǎn)能擴張計劃，對ASML產(chǎn)品組合的需求也進一步明確，使我們能夠更加清晰地判斷未來的長期市場需求。”

ASML首席財務官戴厚杰（Roger Dassen）強調(diào)，Q2業(yè)績超預期的主要驅(qū)動力是高于預期的裝機基礎管理（Installed Base Management）銷售額。第二季度裝機售后服務收入達28億歐元，高于預期3億歐元，這主要得益于客戶對提高現(xiàn)有生產(chǎn)力的需求，推動了升級業(yè)務的顯著增長。

中國大陸凈系統(tǒng)銷售額占比降至14%

從具體的2026年二季度凈系統(tǒng)銷售情況來看，銷售額約為660億歐元（高于上一季的630億歐元），其中EUV系統(tǒng)銷售銷售額占比大幅提升至57%（環(huán)比減少了9個百分點），ArFi系統(tǒng)銷售額占比升至29%（環(huán)比增加6個百分點）。

以凈系統(tǒng)的出貨量來看，2026年二季度EUV系統(tǒng)出貨量為16臺，環(huán)比持平；ArFi系統(tǒng)為23臺，環(huán)比減少了14臺；ArFdry系統(tǒng)出貨量為8臺，環(huán)比增加了3臺；KrF系統(tǒng)出貨量為35臺，環(huán)比增加了5臺；I-line系統(tǒng)出貨量為9臺，環(huán)比減少了2臺。

總的來說，二季度ASML光刻系統(tǒng)的出貨量高于預期，其中新光刻系統(tǒng)銷量從一季度的67臺增至86臺。這些系統(tǒng)主要被客戶用于為AI工作負載擴大邏輯芯片和存儲芯片的生產(chǎn)規(guī)模。

以凈系統(tǒng)銷售金額的區(qū)域占比來看，中國大陸占比進一步降低至14%，環(huán)比減少了5個百分點；中國臺灣占比30%，環(huán)比增加了7個百分點；韓國占比43%，環(huán)比減少了2個百分點；美國占比9%，環(huán)比減少了3個百分點。

以應用領(lǐng)域所貢獻占比來看，邏輯制程占比51%，環(huán)比增加了2個百分點；存儲制程占比49%，環(huán)比減少了2個百分點。

需要指出的是，由于AI需求刺激下，對于存儲需求的大漲，導致市場供不應求、價格飆升，促使三星、SK海力士等韓國存儲大廠啟動擴產(chǎn)，推動了今年一季度ASML來自韓國廠商貢獻的凈系統(tǒng)銷售占比和存儲制程占比的大幅提升，第二季度這一占比雖略有下滑，但是仍居全球市場之首。

Q3指引超預期，上調(diào)2026年全年指引

ASML預計2026年第三季度凈銷售額將在110億至120億歐元之間，中值遠高于分析師一致預期的約102.7億歐元，毛利率介于55%至57%；研發(fā)費用預計約為12億歐元，銷售及管理費用約為4億歐元。，

戴厚杰還透露，在第三季度的凈銷售額當中，裝機售后服務業(yè)務收入預計達29億歐元。

基于上述業(yè)務動態(tài)，ASML還預計2026年全年凈銷售額在430億至450億歐元之間（相比一季度給出的360億至400億歐元指引大幅提升），毛利率介于54%至56%（相比一季度指引的51%至53%也有增加）。

在2027年6月10日舉辦的下一屆投資者日會議上，ASML將更新長期展望，以反映自上屆投資者日會議以來的市場與技術(shù)動態(tài)變化。

對于上調(diào)2026年全年業(yè)績的原因，傅恪禮表示，這是是需求端和供應端共同影響的結(jié)果：一方面，來自客戶的需求保持強勁；另一方面，依托供應鏈、制造能力及現(xiàn)場裝機服務團隊的優(yōu)勢，ASML有能力及時響應客戶需求。

傅恪禮進一步指出，終端市場需求推動客戶不斷加大資本支出，并加速推進其擴產(chǎn)計劃，由此帶動了自今年起對更多ASML光刻系統(tǒng)的需求。與此同時，ASML也在同步擴大產(chǎn)能、擴充團隊，以支持客戶未來發(fā)展需求。上述動態(tài)在邏輯芯片和DRAM（動態(tài)隨機存取存儲器）領(lǐng)域的客戶上均有所體現(xiàn)，他們正在與其下游客戶簽訂長期協(xié)議，這也促使他們作出更長期的投入和產(chǎn)能規(guī)劃。

比如在邏輯芯片領(lǐng)域，在AI相關(guān)需求推動下，客戶正積極擴大現(xiàn)有先進制程節(jié)點的產(chǎn)能并推動下一代先進制程節(jié)點的產(chǎn)能爬坡。

在存儲芯片領(lǐng)域，從近期存儲芯片（DDR或HBM）價格的來看，市場處于供不應求的狀態(tài)，這推動了客戶加速其產(chǎn)能擴張計劃。與此同時，最新的制程節(jié)點需要更多光刻工序，推升光刻在晶圓廠總體投資中的比重，對EUV和浸潤式DUV光刻機的需求都有所提升。

傅恪禮預計，綜合來看，ASML今年來自先進邏輯芯片領(lǐng)域的收入將增長約25%，來自存儲芯片領(lǐng)域的收入將大幅增長約75%。

對于毛利率增長，戴厚杰指出，系統(tǒng)出貨量增長也使固定成本攤薄效果更佳，有利于毛利率的增長；今年EUV及浸潤式DUV業(yè)務表現(xiàn)強勁，產(chǎn)生積極的產(chǎn)品組合效應，進一步提振毛利率；在裝機售后服務領(lǐng)域，升級業(yè)務的增長是帶動毛利率提高的重要因素之一。

2026年Low NA EUV出貨量將達65臺

對于2026年各類光刻系統(tǒng)的出貨，ASML也給出了具體的預期目標。

預計2026年ASML低數(shù)值孔徑（Low NA）EUV的出貨量預計可達65臺左右，這推動ASML的EUV業(yè)務收入增長約45%。

浸潤式DUV的生產(chǎn)速度重新加快，2026年出貨量預計可達130臺左右，與去年同期水平大致相同。

由于客戶對干式DUV的需求也出現(xiàn)增長，預計2026年的出貨量將顯著提升。

此外，由于先進制程節(jié)點不斷演進、工藝復雜度持續(xù)提升，客戶對過程控制的需求持續(xù)增加，以及對光學量測和電子束檢測產(chǎn)品的應用持續(xù)擴大，ASML預計2026年其量測與檢測業(yè)務也將實現(xiàn)強勁增長。

綜合DUV以及量測與檢測業(yè)務來看，ASML預計2026年相關(guān)業(yè)務收入共計將增長約25%。

關(guān)于裝機售后服務業(yè)務

ASML裝機售后服務業(yè)務增長主要來自兩部分：

1、升級服務方面，客戶正在積極尋求產(chǎn)能擴張，尤其是能夠快速見效的升級方案。許多升級服務以軟件為主，因此實施時占用設備的時間較少，客戶能夠較快獲得生產(chǎn)率提升。ASML正持續(xù)擴大相關(guān)升級產(chǎn)品的開發(fā)，盡可能為客戶提供更多的可選擇方案。

2、隨著EUV裝機規(guī)模持續(xù)擴大，相應的裝機售后服務業(yè)務規(guī)模也在不斷擴展。

戴厚杰預計，2026年裝機售后服務業(yè)務將增長超過30%。

產(chǎn)能目標大幅提升

傅恪禮透露，ASML與客戶正就明年及今后的長期發(fā)展保持著建設性溝通，客戶對未來業(yè)務的預期已經(jīng)切實轉(zhuǎn)化為ASML 2026上半年強勁的新增訂單表現(xiàn)，并且2027年EUV訂單目前已基本確定。

為應對市場旺盛的需求，ASML計劃基于2026年約65臺低數(shù)值孔徑（Low NA）EUV的產(chǎn)能規(guī)劃之上，在2027年將產(chǎn)能提升30%，并正研究于2028年進一步提高30%的產(chǎn)能。

“展望2028年，我們已經(jīng)收到客戶大量EUV訂單，這也促使我們認真評估在2028年將EUV產(chǎn)能再提高30%的可能性。”傅恪禮說道。

此外，ASML還計劃基于2026年約130臺浸潤式DUV的產(chǎn)能規(guī)劃之上，在2027年將產(chǎn)能提升30%，并正研究于2028年再提高30%的產(chǎn)能。同事，ASML還將繼續(xù)大幅拓展其系統(tǒng)升級產(chǎn)品組合。

關(guān)于中國市場

雖然今年二季度ASML來自中國大陸的凈系統(tǒng)銷售額占比進一步降低到了14%，但是戴厚杰表示，“我們?nèi)灶A計2026年中國市場的凈銷售額占比將為約20%，與此前預期的比重保持一致。”

戴厚杰解釋稱，由于公司2026全年總凈銷售額預期較年初有所上調(diào)，在中國市場銷售額占比維持不變的情況下，其銷售額絕對規(guī)模也將相應高于年初預期。由此來看，中國市場的發(fā)展與全球市場整體趨勢基本一致。此外，中國市場的增量需求主要來自邏輯芯片領(lǐng)域，以本土需求為主導。

英特爾開始采用High NA EUV系統(tǒng)生產(chǎn)Panther Lake

2024年，英特爾和ASML在俄勒岡州希爾斯伯勒的研發(fā)基地完成了業(yè)界首個商業(yè)High NA EUV光刻系統(tǒng)的集成。英特爾Foundry也是首家安裝并通過第二代TWINSCAN EXE：5200B驗收測試的公司，該型號基于TWINSCAN EXE：5000，提高了輸出和疊加精度，同時配備了改進的光源。

在電話會議上，傅恪禮還宣布，英特爾已在其最先進產(chǎn)品的批量制造中使用高數(shù)值孔徑（High NA）EUV，意味著市場上英特爾的部分產(chǎn)品已采用 ASML High NA EUV系統(tǒng)生產(chǎn)。傅恪禮強調(diào)，這是一個重要的里程碑，證明了High NA EUV的成熟度。

與此同時，ASML最新發(fā)布的新聞稿也顯示，英特爾Foundry正在Intel 18A工藝節(jié)點上采用ASML High NA EUV技術(shù)生產(chǎn)其的部分英特爾Core Ultra 3系列處理器。通過這一宣布，英特爾Foundry成為業(yè)界首家采用High NA EUV發(fā)布大量邏輯產(chǎn)品的公司。

ASML指出，英特爾 Core? Ultra 3系列處理器代號為Panther Lake，基于Intel 18A構(gòu)建，利用高NA EUV對這些產(chǎn)品特定層進行圖案化，為ASML和英特爾Foundry提供了有用的數(shù)據(jù)，進一步優(yōu)化系統(tǒng)設置、運行時間和制造實現(xiàn)。這為更廣泛的應用鋪平了道路，充分利用了技術(shù)的全部能力。

傅恪禮表示：“隨著分辨率的提升和工藝控制的提升，High NA EUV的引入標志著半導體光刻技術(shù)的重大進展。”“我們自豪地能夠在推動人工智能及其他新興技術(shù)進步的更小、更密集的模式化中發(fā)揮作用。”

英特爾Foundry執(zhí)行副總裁兼總經(jīng)理Naga Chandrasekaran表示：“這一里程碑反映了英特爾與ASML之間的緊密技術(shù)合作，展示了High NA EUV如何大規(guī)模集成到先進半導體制造中。”“通過對部分Intel 18A產(chǎn)品層的High NA EUV工藝選項進行資格認證，我們現(xiàn)有的工具群為客戶提供了更高的產(chǎn)出，同時我們也在開發(fā)未來方案，以實現(xiàn)未來節(jié)點的前沿性能、密度和制造靈活性。”

編輯：芯智訊-浪客劍